北京大学王恩哥教授等最新研究进展发布

    如何实现对石墨烯（Graphene）材料剪裁的人工控制，这是近年来科学家一直努力的目标之一。这项工作的重要性是可以对石墨烯能带进行调制，从而有望获得具有各种所需物理性质的微电子器件。

    近日，北京大学物理学院、北京大学量子材料科学中心王恩哥与研究生刘磊和中国科学院物理研究所王文龙等研究人员共同合作，发明了一种新的方法，即二维胶体晶体刻蚀法，它使制备石墨烯纳米带的剪裁研究取得了重要进展。相关研究工作发表在近期的Adv. Mater. 23，1246 (2011) 上。并被Nature Asia Materials作为研究亮点新闻重点报道http://www.natureasia.com/asia-materials/highlight.php?id=880。

    二维胶体晶体刻蚀又称纳米球刻蚀（NSL），是利用自组装胶体微球作为图形掩膜的一种并行（parallel）刻蚀加工技术，具有操作简便、高产出、成本低廉等显著优点，为未来大批量制备石墨烯纳米带提供了一条有效途径。研究人员进一步对预先制作好的石墨烯FET器件，通过逐步刻蚀实现了石墨烯电学性质的“器件原位”（on-chip）动态调控，展示了该方法在石墨烯电子器件研究中的潜在应用价值。